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Organic electronic devices with inorganic high-k gate oxides grown by Atomic Layer Deposition
Typ der Veröffentlichung
Konferenzbeitrag
Veröffentlicht in
16th AVS conference on Atomic Layer Deposition, Dublin, Ireland
Schlagwörter
ALD, organic devices, OFET, high-k, gate oxide
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2016
Referiert
Nein
Open Access
Nein
Zugeordnete Forschungsschwerpunkte
- * Atomic Layer Deposition (ALD)
Berichtsjahr
2016
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