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Growth kinetics and film properties of tantalum nitride ALD investigated by in-situ real-time ellipsometry and in-vacuo surface analysis
Typ der Veröffentlichung
Konferenzbeitrag
Veröffentlicht in
12th International Baltic ALD conference, At Helsinki, Finland, 12.-13.05.2014
Schlagwörter
-
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2014
Band/Vol.
Vortrag
Referiert
Nein
Open Access
Nein
Berichtsjahr
2014
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