Publikationen der Professur für Halbleitertech­nik

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Künzelmann, U.; Schumacher, H.; Estel, K.; Bartha, J.W.: Herstellung und Anwendung von Mikrostrukturen auf Silizium als Reflexionselemente für die ATR-FTIR-Spektroskopie. In: Bruker Optics Anwendertreffen, Ettlingen, 11.-12.11.2008 (2008)

Künzelmann, U.; Schumacher, H.; Estel, K.; Vasilev, B.; Bartha, J.W.: Chemical and physical surface interactions during the oxide CMP studied through the wafer backside by FTIR spectroscopy. In: Electrochemistry: Crossing Boundaries, Gießen, 6.10.2008 (2008)

Schumacher, H.; Estel, K.; Künzelmann, U.; Bartha, J.W.: A novel infrared method for measuring material removal through the silicon wafer. In: CMP-Nutzertreffen, Itzehoe, 11.04.2008 (2008)

Strehle, S.; Schmidt, D.; Gutsch, S.; Knaut, M.; Albert, M.; Bartha, J.W.: In situ XPS investigation about the growth of the first atomic layer of Ta(N) films deposited by thermal TBTDET ALD. In: Tagungsbandbeitrag und Poster auf dem MRS Fall Meeting 2008, Boston, MA USA (2008)

Rößler, T.; Gluch, J.; Knaut, M.; Albert, M.; Schröder, U.; Teichert, S.; Bartha, J.W.: Characterization of ALD Hf-Y-O. In: ALD conference, 2008, Brügge (2008)

Richter, K.; Viehweger, K.; He, J.; Bartha, J.W.: Creation of Vias with Optimized Profile for 3-D Through Silicon Interconnects (TSV). In: Posterbeitrag, 11th Int. Conf. on PSE 2008, 15.-19.9.2008, Garmisch-Partenkirchen Proceedings PSE 2008 (2008)

Albert, M.; Strobel, C.; Kuske, J.; Bartha, J.W.: High rate deposition of amorphous silicon thin film solar cells (120nm/min) with a VHF-PECVD inline deposition system. In: 23rd European Photovoltaic Solar Energy Conference, 1.-5. Sept. 2008, Valencia, Spain (2008)

Albert, M.; Strehle, S.; Schmidt, D.; Knaut, M.; Hossbach, C.; Rößler, T.; Bartha, J.W.; Gluch, J.; Menzel, S.; Schröder, U.; Hintze, B.: Metal and Insulator layers for DRAM applications. In: GerALD2008, Sept. 22-23, Halle (2008)

Albert, M.; Bartha, J.W.: Atomlagenabscheidung als Werkzeug für die Nanotechnologie. In: Vakuum in der Forschung und Praxis 20(2008)1 (2008), S. 7–10

Schmidt, D.; Knaut, M.; Albert, M.; Hintze, B.; Bartha, J.W.: TAPEDIS - a liquid halide ALD Precursor for depositing Ta-N bases thin films. In: Agent. Proc. AVS Conf. Bruges (B) avail, online (2008)

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Martin Knaut
Letzte Änderung: 05.10.2022